ネイエ1

99.7%高純度アルミナセラミックス

簡単な説明:

高純度アルミナセラミックスAl2O3:>99.7%

 

 

- アルミナウェハ研磨プレート/ターンテーブル

-液晶ディスプレイ製造装置用大型高純度アルミナ基板


製品詳細

高純度アルミナセラミックス(Al2O3(99.7%以上)

-アルミナウェハ研磨プレート/ターンテーブル

-液晶ディスプレイ製造装置用大型高純度アルミナ基板

 

材料:

高純度アルミナAl2O3:>99.7%

 

応用:

半導体、石油、化学、太陽光発電、LCDなどの産業において、機械部品、電子部品、マイクロ波誘導ディスク、絶縁部品として使用されます。半導体デバイス、真空装置、液晶製造装置などの製造部品として使用されます。例えば、大型の高純度アルミナセラミックウェハ研磨プレート/ターンテーブルは、化学機械研磨におけるCMPの重要な構成要素であり、LCD用アルミナベースボードにも使用されます。

 

特徴:

高純度アルミニウム2O399.7%~99.9%

高い機械的強度

高い耐摩耗性

高い電気絶縁性

高い耐薬品性

優れた耐熱性と耐腐食性

 

メーカーの強み:

当社はPIBM自然凝固システムの独自の知的財産権を保有しており、高品質のファインセラミック部品を専門的に製造しています。

この新技術は、大型セラミック湿式成形体の製造工程における変形や亀裂といった問題を克服し、従来の方法で製造された大型セラミック部品の製品性能を大幅に最適化する。

Chemshun Ceramicsのアルミナセラミックサファイアラッピングウェーハ研磨は、PIBM製造プロセスを採用しています。これは国際的に先進的な技術です。PIBMは​​、大型アルミナセラミックのひび割れや変形といった主要な問題を解決しました。PIBM技術は、ファインセラミックの新たな可能性を切り開きます。当社は、高品質のアルミナセラミックウェーハ研磨板だけでなく、LCD製造装置、半導体デリバリートラック、真空部品、一般機械部品、防弾セラミックなど、1200x500x20mmのセラミック基板といった大型高純度アルミナセラミックのシリーズも製造しています。

 

製品の形状とサイズ

1.アルミナウェハ研磨プレート/ターンテーブル。ディスク、リングサイズ850mm以下、厚さ45mm。

2. LCD用アルミナベースボード(サポートレセプタクル/キャリアプレート)。形状は、ロングボード、ロングバー、スクエアボード、薄型ボードなど、サイズが1500*600mm以下のもの。例:1200x500x20、1400x900x30など。

3. 1000 * 45 * 45mm以下のガイドレール。

4. 空のチューブ、シリンダー、電気真空管など。サイズが300〜600×L500mm以下のもの。

5. 様々な形状の部品を使用した特注品も承ります。

 主要パラメータ:(化学的/物理的):

財産

アイテム ユニット

チェムシュン 99.7% アルミナセラミックス

一般特性

主要コンポーネント 重量%

99.7~99.9

密度 gm/cc

3.94-3.97

-

象牙

吸水 %

0

機械的特性

曲げ強度(MOR)20℃ MPa(psi×10^3)

440-550

弾性率(20℃) GPa (psix10^6)

375

ビッカース硬度 Gpa(kg/mm2) R45N

17歳以上

曲げ強度 GPA

390

引張強度(25℃) MPa(psi×10^3)

248

破壊靭性(KI c) MPa・m^1/2

4-5

熱特性

熱伝導率(20℃) W/mk

30

熱膨張係数(25~1000℃) 1×10⁻⁶/℃

7.6

耐熱衝撃性 ℃(ΔTc)

200

最高使用温度 C

1700

電気的特性

絶縁耐力(1MHz) 交流kV/mm(交流V/ミル)

8.7

誘電率(1 MHz) 25℃

9.7

体積抵抗率 オーム・センチメートル(25℃)

>10^14

  オーム・センチメートル(500℃)

2×10^12

  オーム・センチメートル(1000℃)

2×10^7

 

成形工程 セラミック仕上げ工程

https://www.ceramiclinings.com/99-7-advanced-alumina-ceramics-product/

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品質保証:

各バッチ製品は、工場内の研究所と国家検査センターで検査されます。

 

商品タグ


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